卷对卷 曝光机 For 引线框架, VCM Spring
板件宽度 |
350(mm) |
板件厚度 |
0.1 ~ 0.35(mm) |
曝光尺寸 |
350 x 530(mm) 以上 |
曝光方式 |
非接触式 : Gap control |
光源 |
5~8㎾ 超高压水银灯
Option : LED(365nm) |
强度 |
25㎽(均匀度 92%)
LED Type : 15~20㎽(90%) |
CA / DA 角度 |
1.5˚ / 1.5˚ 以下 |
对位精度 |
Mask To Mask : ±5㎛
板件 To 板件l : ±15㎛
Mask To Mask Gap : ±5㎛
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工程时间 |
11sec + 曝光时间 |
对位方式 |
6CCD + UVW 方式 |
板件张力控制器 |
缓冲 + 重量 |
Utility(Electric) |
220V x 50/60㎐ x 3P x 25㎾ |
Utility(Pneumatic air) |
5㎏/㎠ 以上 |
工程 |
卷出-清洁-曝光=移送-卷取 |